商品ID:24674
商品概要
SiO2/SiN/GaN系化合物等の、高い透明度の端末にベストな膜厚モニタです。
商品詳細
エッチングプロセス中にエッチングレート、厚、膜の反射強度変化よる境界面を検知します。
Xe-Hg紫外光照射により膜厚変化をモニタできます。
発光分析ではきわめて困難なエッチング深さのエンドポイントを実現できます。
Xe-Hg紫外光照射により膜厚変化をモニタできます。
発光分析ではきわめて困難なエッチング深さのエンドポイントを実現できます。
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